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光刻机工作的原理介绍
2026-02-05【朝闻】
简介光刻机是半导体制造中的核心设备，用于将电路图案精确地转移到硅片上。其工作原理主要包括光源、掩模版、光学系统和曝光控制等关键部分。总...
光刻机是半导体制造中的核心设备，用于将电路图案精确地转移到硅片上。其工作原理主要包括光源、掩模版、光学系统和曝光控制等关键部分。
总结：
光刻机通过高精度的光路系统，将设计好的电路图案通过掩模版投射到涂有光刻胶的硅片上，经化学处理后形成微小的电路结构。整个过程依赖于精密的光学系统和稳定的环境控制。
| 关键部件 | 功能说明 |
| 光源 | 提供高能量的紫外或极紫外光，用于曝光 |
| 掩模版 | 含有电路图案的透明玻璃板，用于遮挡光线 |
| 光学系统 | 聚焦并调整光线，确保图案清晰投射 |
| 光刻胶 | 涂覆在硅片表面，对光敏感，用于记录图案 |
| 控制系统 | 精准控制曝光参数，保证工艺稳定性 |
光刻机技术的进步直接影响芯片性能与制造成本，是现代电子工业的基础。
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